Cовременное тестовое оборудование и технологии
Рус Eng

Лучшее решение для снятия разделенных кристаллов с рамки-носителя

Особенности данной установки:
  • Специально разработанная вакуумная система, которая оттягивает пленку от кристаллов, сами кристаллы при этом остаются на сетке
  • Кристалл остается на сетке до тех пор, пока оператор не снимет его при помощи стандартного или вакуумного пинцета
  • Данная установка идеально подходит для снятия тонких кристаллов
  • Работает как с УФ пленками так и с пленками с липким слоем
  • Может быть установлена как вспомогательное оборудование к установкам монтажа кристаллов

Характеристики:
  • Электропитание: 115 В, 3 А, 50/60 Гц или 220 В, 1 А, 50 Гц
  • Вакуум: 0,85 бар
  • Вес: 2,7 кг
  • Вес с упаковкой: 4 кг
  • Размер: 203х127х127 мм ШГВ
Смежные продукты
image
Отдельно стоящая автоматическая установка промывки пластин модели A-CS-100A является лучшим решением для очистки и сушки полупроводниковых пластин, разрезанных на полуавтоматических установках резки
Accretech
image
Настольные системы УФ-озоновой очистки UV-208/UV-312 могут применятся для очистки поверхности полупроводниковых пластин и ряда других операций
Technovision, Inc.
image
Отдельно стоящая автоматическая установка промывки пластин модели A-CS-300 является лучшим решением для очистки и сушки полупроводниковых пластин диаметром до 300 мм после процесса резки
Accretech
image
Установки серии FM-224 позволяют работать с пластинами и подложками диаметрами до 300 мм
Technovision, Inc.
image
Установки серии ТЕХ-21 предназначены для растяжения пленки со спутника-носителя для получения равномерных промежутков между кристаллами разрезанной пластины
Technovision, Inc.
image
Очистка фотошаблонов существенно влияет на качество конечного продукта. Накопленный компанией Technovision опыт помог создать системы очистки фотошаблонов, способные обеспечить высокий уровень чистоты изделий
Technovision, Inc.
image
Установка TWC-200A подходит для автоматического удаления остатков резиста и частиц размером более 1 мкм, которые прикрепляются к шаблону на операциях его экспонирования и обработки
Technovision, Inc.
image
В установках УФ экспонирования пленок серии UVC могут использоваться 2 типа источников излучения – светодиодные LED лампы и ртутные лампы высокого давления. Установки данной серии работают с пластинами до 300 мм
Technovision, Inc.
Установки УФ экспонирования пленок серии UVC
Отправить запрос