Cовременное тестовое оборудование и технологии
Рус Eng
Свернуть Развернуть
Данная установка представляет собой настольную систему плазменной очистки, предназначенную для удале...
Pink Plasma Finish
Благодаря наличию в данной системе массового расходомера рабочих газов, можно производить смену газовых баллонов с различным давлением, а PLC-контроллер обеспечивает возможность программирования и хранения режимов работы, а так же безопасность рабочего...
Настольная система очистки V10-G была разработана специально для удаления фоторезиста, она идеально ...
Pink Plasma Finish
Данная установка представляет собой настольную систему плазменной очистки, которая идеально подойдет для научно-исследовательских лабораторий и мелкосерийного производства.

Отличительные особенности:
  • Кварцевая камера
  • ...
Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки, предназначенную для уд...
Pink Plasma Finish
Установка V15-G оснащена массовым расходомером газов, PLC-контроллером, что обеспечивает возможность программирования и хранения режимов работы, а так же безопасность процесса очистки.

Конструкция установки позволяет избежать недостатков...
Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки, предназначенную для уд...
Pink Plasma Finish
Установка V55-G оснащена массовым расходомером газов, PLC-контроллером, что обеспечивает возможность программирования и хранения режимов работы, а так же безопасность процесса очистки.
Конструкция установки позволяет избежать недостатков процесса...
Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки, предназначенную для уд...
Pink Plasma Finish
Установка V80-G оснащена массовым расходомером газов, PLC-контроллером, что обеспечивает возможность программирования и хранения режимов работы, а так же безопасность процесса очистки.
Отличительные особенности:
  • USB–интерфейс,
  • ...
Данная установка предназначена для проведения процессов плазменной обработки изделий и процессов (на...
UniTemp
Установка имеет одну рабочую камеру, PLC управление и может использоваться в условиях мелкосерийного производства.

Техническая характеристика PTP-200/ PTP-300:
Размеры нагреваемой зоны, мм: 170х200/ 300х300
Высота камеры, мм: 40/50
Материал камеры:...
Упрощенное определение плазмы – ионизированный газ. Благодаря тому, что вещество в данном состоянии легко взаимодействует с другими веществами, плазму используют мо многих отраслях промышленности, в том числе в: 
  • Автомобильной промышленности
  • Электронной и микроэлектронной промышленности
  • При изготовлении медицинских изделий
  • При изготовлении пластиковых карт
  • При изготовлении и покраске пластиковых изделий и др.

Различают 2 метода воздействия плазмой:
  1. Химическое – для данного метода применяются активные газы (Кислород, водород и др.), которые взаимодействуют с веществами на поверхности образуя летучие соединения.
  2. Физическое – активные ионы (обычно нейтральных) газов (Аргон, Азот и др.) за счет своей энергии удаляют инородные соединения.

Плазменная обработка применяется для следующих целей:
  • Очистка поверхности от органических загрязнений.
  • Очистка от окислений
  • Удаление фоторезистов
  • Активация поверхностей перед нанесением покрытий/покраски
  • Обработка поверхностей перед заливкой компаундом и процессом молдинга.

Метод плазменной очистки имеет ряд преимуществ перед другими методами:
  • Высокая эффективность чистки
  • Низкая температура процесса
  • Проникновение в малейшие трещины
  • Нет необходимости в сушке
  • Пригодна для всех материалов
  • Низкая стоимость процесса
  • Отсутствие отходов

Отправить запрос