Cовременное тестовое оборудование и технологии
Рус Eng

Высокотемпературная вакуумная печь с ускоренным набором температуры RTP-100

UniTemp

Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа

Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до 100 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую камеру печей линейки RTP производится вручную. Печи легко управляемы и просты в техобслуживании. Две программируемые газовые линии с расходомерами могут использовать два различных газа, при подключении вакуумной помпы процесс оплавления можно проводить в вакууме. Основной особенностью печей является возможность  быстрого нагрева (охлаждения)до 150 К/сек и точный контроль температуры. 

Отличительные особенности:
  • Быстрый нагрев (охлаждение)
  • Точный контроль температуры
  • До 4 линий подачи газа с регуляторами расхода
  • Мониторинг и чтение данных процесса
  • Нагрев с помощью инфракрасных ламп
  • Регулятор массового расхода азота (5 литров в минуту)
  • Возможность создания в камере вакуума до 10-3мбар 
  • Температура нагрева до 1200°C 
  • Сенсорный экран 7" 
  • Программируемые профили температуры
  • Работа в атмосфере инертных газов, кислорода, водорода, форминг газа

Области применения:
  • Имплантация/ отжиг за счёт контактного нагрева
  • RTP, RTA, RTO, RTN
  • Легирование SiAu, SiAl, SiMo
  • Работа с диэлектриками с пониженной диэлектрической проницаемостью
  • Кристаллизация и уплотнение поверхности
  • Разработка прототипов
  • Контроль качества
  • Обжиг медной и резистивной пасты

Опции:
  • Дополнительная линия подачи газа с регулятором массового расхода (максимум 3 единицы)
  • Анализатор влажности для измерения остаточной влажности в камере 
  • Анализатор кислорода для измерения кислорода оставшегося в камере (не может быть установлена вместе с опцией водорода)
  • Дополнительная термопара (максимум 2 единицы)
  • Вакуумная система до 3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
  • Вакуумная система до 10-3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
  • Соединительные трубки из VCR
  • Настольная модель с электрическим шкафом и встроенным универсальным теплообменником (UHE)
  • Дополнительная камера 100 мм с  возможностью одновременного использования 2 камер
  • Графитная плита или токоприемник (опционально покрытие карбидом кремния)
  • Мембранная помпа для вакуума до 3 мбар
  • Вращающаяся лопастная помпа для вакуума до 10-3 мбар с масляным фильтром
  • Модуль водорода: позволяет использовать 100% водород, состоит из линии подачи газа и регулятора массового расхода 
  • Предохранительный механизм для предотвращения бесконтрольного  выделения водорода
  • Замкнутая водная система охлаждения
  • Адаптер для пластин диаметром 50 мм
  • Адаптер для пластин диаметром 75 мм

Технические характеристики:
Макс. размер пластин 100 x 100 мм
Материал камеры Кварцевое стекло
Высота камеры 18 мм
Система загрузки подложек Фронтальная загрузка, поддон из кварцевого стекла
Макс. давление вакуума До 10-3 милибар
Размеры рабочей камеры 134 x 169 x 18 мм
Макс. Температура 1200 ºС
Нагрев 18 ИК ламп (20 кВт)
Зоны нагрева Верхняя и нижняя (программируемые)
Скорость нагрева До 150 К/сек
Скорость охлаждения с 1200ºС до 400ºС: 200К/мин, с 400ºС до 100ºС: 30К/мин
Подача газа 1 газовая линия (опционально до 4)
Используемые газы Азот, кислород, N2H2, аргон
Давление газов 2-6 бар, макс. расход 10 л/мин
Метод охлаждения Вода: 2л/мин., 2-6 бар
Эл. питание 3х32 А, 230 В, 3 фазы
Габаритные размеры 504 x 505 x 570  мм
Вес 55 кг

Смежные продукты
image
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
image
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
image
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
image
ПВакуумная печь с возможностью нагрева до 1000 °C для подложек размером 300 x 300 мм
UniTemp
image
Установка вакуумной герметизации с двумя отдельными нагреваемыми зонами для подложек диаметром 100 мм
UniTemp
image
Установка вакуумной герметизации с двумя отдельными нагреваемыми зонами для подложек диаметром 200 мм
UniTemp
image
Все системы линейки RSS были разработаны как бюджетное и компактное решение для оплавления припоя и других термических операций. Общий размер нагреваемой рабочей зоны составляет 630 x 210 мм, что позволяет проводить одновременную обработку до 12 пластин диаметром 100 мм каждая при температуре до 300 °C
UniTemp
image
Печь оплавления для проведения различных термических процессов в высоком вакууме с возможностью нагрева до 650 °C
UniTemp
image
Компактаная настольная печь оплавления модели RSS-110-S обеспечивает быстрый набор температуры и высокую скорость охлаждения
image
Компактаная настольная печь оплавления модели RSS-160-S обеспечивает быстрый набор температуры и высокую скорость охлаждения
UniTemp
image
Компактная настольная печь оплавления модели RSS 210-S обеспечивает быстрый набор температуры и высокую скорость охлаждения
UniTemp
image
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
image
Компактаная настольная печь оплавления модели RVS-210 обеспечивает быстрый набор температуры и высокую скорость охлаждения и подходит как для безфлюсовой пайки, так и для пайки с флюсом
UniTemp
image
Вакуумная печь оплавления для проведения различных термических процессов с возможностью нагрева до 650 °C
UniTemp
image
Вакуумная печь оплавления для бесфлюсовой пайки и пайки с флюсом с возможностью нагрева до 450 °C
UniTemp
Высокотемпературная вакуумная печь с ускоренным набором температуры RTP-100-HV
Отправить запрос