Cовременное тестовое оборудование и технологии
Рус Eng
Свернуть Развернуть
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до 100 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую...
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до100 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую...
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром 150 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую...
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром 150 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую...
Данные печи разработаны для высокотемпературного отжига и термической обработки толстопленочных изде...
Hengli Elitek, Китай
Технические характеристики:
  • Режимы нагрева с верхней и с нижней стороны. 
  • Максимальная температура нагрева +1050℃. 
  • Основная рабочая температура: +850℃.
  • Ленточный конвейер
  • Ширина ленты конвейера...
Компактаная настольная печь оплавления модели RVS-210 обеспечивает быстрый набор температуры и высок...
UniTemp
Установка высокотемпературной обработки образцов в управляемой газовой среде или в вакууме модели RVS-210. Благодаря компактному дизайну данные настольные печи оплавления являются идеальным вариантом для лабораторий и чистых комнат. Рабочая камера ...
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром 150 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую...
Компактная настольная печь оплавления модели RSS 210-S обеспечивает быстрый набор температуры и высо...
UniTemp
Благодаря компактному дизайну, настольные печи оплавления модели RSS-210-S являются идеальным вариантом для лабораторий и чистых комнат. Рабочая камера герметизируется вакуумом и имеет смотровое окно, что позволяет контролировать процесс оплавления....
Компактаная настольная печь оплавления модели RSS-160-S обеспечивает быстрый набор температуры и выс...
UniTemp
Благодаря компактному дизайну, настольные печи оплавления модели RSS-160-S являются идеальным вариантом для лабораторий и чистых комнат. Рабочая камера герметизируется вакуумом и имеет смотровое окно, что позволяет контролировать процесс оплавления....
Компактаная настольная печь оплавления модели RSS-110-S обеспечивает быстрый набор температуры и выс...
Благодаря компактному дизайну, настольные печи оплавления модели RSS-110-S являются идеальным вариантом для лабораторий и чистых комнат. Рабочая камера герметизируется вакуумом и имеет смотровое окно, что позволяет контролировать процесс оплавления....
Печь оплавления для проведения различных термических процессов в высоком вакууме с возможностью нагр...
UniTemp
Печи серии RSO идеально подходят для лабораторных условий, а также для мелкосерийного производства и предназначены для различных процессов (бесфлюсовое оплавление паст, Flip Chip процессов, сушки адгезивов, отверждения компаундов в различных атмосферах...
Операции термообработки предназначены для придания необходимых свойств материалам. Термические процессы занимают значительное место в создании полупроводниковых приборов и ИМС, для обеспечения воспроизводимости и качества этих процессов необходимо выбрать подходящее оборудование, обладающее оптимальными техническими характеристиками. 

Печи используемые для проведения термических процессов могут подразделяться на следующие типы:
  • Универсальные
  • Печи для сушки
  • Печи для отжига
  • Печи для пайки
  • Диффузионные печи и др.

Отправить запрос