Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до 300 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую камеру печей линейки VPO-300 производится вручную. Печи легко управляемы и просты в техобслуживании. Наличие порта в стенке камеры позволяет организовать различные решения для контроля за процессом: окно для визуального контроля, установка дополнительных термопар, подача газа и др. Две программируемые газовые линии с расходомерами могут использовать два различных газа, при подключении вакуумной помпы процесс оплавления можно проводить в вакууме.
Отличительные особенности:
- Быстрый нагрев (охлаждение)
- До 4 линий подачи газа с регуляторами расхода
- Нагрев осуществляется 48 ИК лампами
- Нагрев с верхней и с нижней стороны, область нагрева выбирается через программное обеспечение
- 50 программ по 50 шагов каждая
- Температура нагрева до 1000 °C
- Точный контроль температуры
- Мониторинг и чтение данных процесса
- Возможность создания в камере вакуума (до 10-3мбар опционально до 10-6 мбар)
- Сенсорный экран 7"
- Программируемые профили температуры
- Работа в атмосфере инертных газов, кислорода, водорода, форминг газа
Области применения:
- Имплантация/ отжиг за счёт контактного нагрева
- RTP, RTA, RTO, RTN
- Легирование SiAu, SiAl, SiMo
- Работа с диэлектриками с пониженной диэлектрической проницаемостью
- Обжиг после имплантации
- Кристаллизация и уплотнение поверхности
- Разработка прототипов
- Контроль качества
Опции:
- Дополнительная линия подачи газа с регулятором массового расхода (максимум 3 единицы)
- Дополнительная термопара (максимум 2 единицы)
- Вакуумная система до 3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
- Вакуумная система до 10-3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
- Настольная модель с электрическим шкафом и встроенным универсальным теплообменником (UHE)
- Дополнительная камера 100 мм с возможностью одновременного использования 2 камер
- Графитная плита или токоприемник (опционально покрытие карбидом кремния)
- Мембранная помпа для вакуума до 3 мбар
- Вращающаяся лопастная помпа для вакуума до 10-3 мбар с масляным фильтром
- Модуль водорода: позволяет использовать 100% водород, состоит из линии подачи газа и регулятора массового расхода
- Вращающаяся лопастная помпа для вакуума до 10-3 мбар с масляным фильтром
- Замкнутая водная система охлаждения
- Камера высотой 120мм (вместо 50мм) со смотровым окном (диаметром 60мм)
- Камера из нержавеющей стали (VA 1.4305)
- Графитная плита
- Кварцевая пластина для отделения верхней зоны нагрева
- Серийный интерфейс между системой VPO и внешним ПК
- Удаленное управление верхней крышкой
- Кварцевый универсальный держатель для пластин диаметром 100 - 300 мм
Технические характеристики:
Макс. размер пластин 300 x 300 мм
Материал камеры Полированный алюминий, поддон из кварцевого стекла
Высота камеры 50 мм (опционально 120 мм)
Макс. давление вакуума до 10-3 милибар, опционально до 10-6 милибар
Размеры рабочей камеры 350 x 350 x 50 мм
Макс. температура 1000 ºС
Нагрев 24 ИК лампы (21 кВт)
Зоны нагрева верхняя и нижняя (программируемые)
Скорость нагрева до 40 К/сек
Скорость охлаждения с 1000ºС до 400ºС: 200К/мин, с 400ºС до 100ºС: 30К/мин
Подача газа 1 газовая линия (опционально до 4)
Используемые газы азот, аргон, гелий, кислород, опционально водород
Давление газов 2-6 бар, макс. расход 10 л/мин
Метод охлаждения вода, азот
Эл. Питание 3х32 А, 230 В, 3 фазы
Габаритные размеры 505 x 504 x 830 мм
Вес около 100 кг
