Cовременное тестовое оборудование и технологии
Рус Eng

Установка электронно-лучевой литографии nB5

NanoBeam

Установка NB5 представляет собой систему с векторным сканированием прямым лучом, которая использует метод последовательной шаговой мультипликации. Данная система была специально разработана для комбинированной литографии.

Современная и инновационная конструкция системы позволяет достичь высокой производительности и надёжности. Установка nB5 идеально подходит для разработки и производства нано-устройств. 

Установка nB5 выполняет обратную литографию для формирования металлизированного слоя  в 20 нм, при определенных параметрах процесса может быть достигнуто 10нм. Повторяемый результат в нанесении  металлизированного слоя  <20нм был продемонстрирован в производстве полупроводниковых пластин. 

Уникальная и компактная вакуумная система установки обеспечивает  бесперебойную работу и надежную работу. Надежное и простое в использовании программное обеспечение и расширяемый графический интерфейс делают установку удобной для пользователя.

Отличительные особенности:

  • Низкий кулоновский эффект электронной оптики
  • Уникальная автоматическая система загрузки
  • Система отслеживания вибрации
  • Высокая устойчивость к полям рассеиванния
  • Инновационная конструкция электронной пушки
  • Дружелюбный интерфейс ПО
  • Высокая пропускная способность
  • Малая занимаемая площадь

Области применения:

  • Микроэлектроника
  • МЭМС
  • Микрофлюидика
  • Оптоэлектроника

Технические характеристики:

Отправить запрос