Cовременное тестовое оборудование и технологии
Рус Eng

Установки серии ТЕХ-21 предназначены для растяжения пленки со спутника-носителя для получения равномерных промежутков между кристаллами разрезанной пластины

Кремниевые пластины требуют тщательной обработки для обеспечения разделения пластины на кристаллы для предотвращения скалывания углов кристалла после процесса резки. Установки серии TEX-21 обеспечивают растяжение пластин путем равномерного растягивания в направлениях X и Y. После растяжения/разделения, пластина, прикрепленная к пленке помещается на растяжное кольцо (пяльца, состоящие из внешнего и внутреннего колец). 

Отличительные особенности:
  • Регулировка растяжения
  • Регулировка скорости привода столика 
  • Разделение пластин диаметром до 200 мм
  • Компактное настольное исполнение
  • Устройство круговой обрезки пленки

Области применения: Растяжение адгезионной пленки с разрезанной на кристаллы пластиной 

Технические характеристики

Смежные продукты
image
Отдельно стоящая автоматическая установка промывки пластин модели A-CS-100A является лучшим решением для очистки и сушки полупроводниковых пластин, разрезанных на полуавтоматических установках резки
image
Настольные системы УФ-озоновой очистки UV-208/UV-312 могут применятся для очистки поверхности полупроводниковых пластин и ряда других операций
image
Отдельно стоящая автоматическая установка промывки пластин модели A-CS-300 является лучшим решением для очистки и сушки полупроводниковых пластин диаметром до 300 мм после процесса резки
image
Установки серии FM-224 позволяют работать с пластинами и подложками диаметрами до 300 мм
image
Очистка фотошаблонов существенно влияет на качество конечного продукта. Накопленный компанией Technovision опыт помог создать системы очистки фотошаблонов, способные обеспечить высокий уровень чистоты изделий
image
Установка TWC-200A подходит для автоматического удаления остатков резиста и частиц размером более 1 мкм, которые прикрепляются к шаблону на операциях его экспонирования и обработки
image
В установках УФ экспонирования пленок серии UVC могут использоваться 2 типа источников излучения – светодиодные LED лампы и ртутные лампы высокого давления. Установки данной серии работают с пластинами до 300 мм
image
Лучшее решение для снятия разделенных кристаллов с рамки-носителя

Настольные установки монтажа на спутник-носитель серии FM-224 Система очистки фотошаблонов модели TW-300
Отправить запрос