Cовременное тестовое оборудование и технологии
Рус Eng

Установка наноимпринт литографии модели NPS 300

SET

Модель NPS 300, оптимизирована для производства наноструктур и является первой в мире системой, объединяющей возможности УФ-наноимпринтлитографии и горячего тиснения

Установка позволяет воспроизводить структуры размером менее 20 нм с точностью перекрытия структур 250 нм.
Дизайн установки и ее конструктивные особенности обеспечивают превосходную повторяемость процесса. NPS 300 позволяет создавать структуры на пластинах диаметром до 300 мм в пошаговом режиме.
Модель NPS300 доступна с двух вариантах, как полностью автоматическая система и как установка с ручной загрузкой пластин.

Отличительные особенности:
  • Наноимпринтлитография для различных видов мультиплицирования 
  • Пластины до 300 мм 
  • Использование инертных газов для более быстрого проведения процессов УФ-наноимпринтлитографии
  • Высокоточная программируемая система дозирования резиста
  • Автоматический подъем штампа
  • Гранитное основание обеспечивают отличную стабильность, точность и повторяемость процесса

Области применения:
  • Производство фотонных приборов
  • Производство высокоточных микрооптических матриц и решеток
  • Производство OLED дисплеев с высоким разрешением
  • Наноимпринтлитография

Опции:
  • Дозатор для УФ-наноимпринтлитографии
  • Ламинарный поток
  • Увеличение шага перемещения по оси Theta для штамповки под различным углом 

Технические характеристики:
Параметры изделий
размеры пластин/подложек диаметр до 300 мм, толщина до 5 мм,
размеры шаблона/штампа квадрат 50/65 мм, толщина 6,3 мм ,

Рабочая головка
разрешение импринтинга менее 20 нм,
точность совмещения 100 нм (базовая модель),
точность совмещения слоев 250 нм (in-situ),
усилие импринтинга 5-4000 Н,
перемещение по оси Z 50 нм шаг, программируемая скорость,
моторизованное предварительное выравнивание ±1º, разрешение 10 нм,
автоматическое выравнивание осевая точка на поверхности штамповки

Платформа
перемещение по оси XY 410х395 мм, разрешение 10 нм
перемещение по оси Theta ±5º, шаг 0,4 мкрад, 

Держатель подложек
размеры квадрат до 50, 100, 150, 200 мм, диаметр 300 мм,
нагрев до +450 ºС, 

Оптика
перемещение по оси XY 100х80 мм, разрешение 10 нм,
автоколлиматор предварительное совмещение,
разрешение 20 мкрад (на зеркале),
цифровая камера 0,50 мкм на пиксель,
разрешение темное и светлое поле, подсветка LED,
поле зрения 890х680 мкм,
система распознования образов Cognex.

МОНТАЖНЫЕ ГОЛОВКИ
УФ-наноимпринт 
усилие штамповки до 200 Н,
площадь экспонирования (макс) 40х40 мм,
интенсивность экспонирования до 120 милливатт/см2 при контакте,
равномерность экспонирования ± 10%,
длина волны 365 нм, ± 15 нм /375 или 395 нм. 

Горячее теснение
усилие импринтинга до 4 кН,
температура до +450°C.

Размещение
габаритные размеры 1960х2100х2180 мм,
вес 3000 кг,
электропитание 200/400 В, 10 кВт, 50/60 Гц

Отправить запрос