Cовременное тестовое оборудование и технологии
Рус Eng

Установка плазменной очистки V15-G

Pink Plasma Finish

Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки, предназначенную для удаления загрязнений, оксидов и др. составов перед операцией разварки выводов проволокой, во «flip chip»-технологии и т.д.

Установка V15-G оснащена массовым расходомером газов, PLC-контроллером, что обеспечивает возможность программирования и хранения режимов работы, а так же безопасность процесса очистки.

Конструкция установки позволяет избежать недостатков процесса плазменной очистки связанных с «эффектом экранирования».

Отличительные особенности:
  • Сдвижная дверь
  • PLC-контролер
  • Сверхточное совмещение по верхней стороне
  • Отображение важных параметров всех процессов
  • Возможность удалённого контроля
  • USB–интерфейс

Области применения:
  • Изготовление МЭМС и изделий сверхмалого размера
  • Удаление полимеров
  • Удаление жертвенных органических слоёв
  • Обработка биоактивных компаундов

Опции:
  • Вакуумная помпа;
  • Озоновая ловушка
  • До трех газовых линий
  • Экранированная камера
  • Клапан управления давлением
  • И другие

Технические характеристики:
Размеры рабочей камеры: 250 x 250 x 250мм. 
Частота генератора: 2,45 ГГц, 100 — 600 Вт
Подача газа: Одна газовая магистраль с массовым расходомером с магнитным клапаном
Эл. питание: 380 В, 50 Гц, 1,5 кВт
Габаритные размеры: 670 x 900 x 1,850 мм

Смежные продукты
image
Данная установка представляет собой настольную систему плазменной очистки, предназначенную для удаления загрязнений, оксидов и др. составов перед операцией разварки выводов проволокой, во «flip chip»-технологии и т.д.
Pink Plasma Finish
image
Настольная система очистки V10-G была разработана специально для удаления фоторезиста, она идеально подходит для очистки полупроводниковых пластин и подложек.
Pink Plasma Finish
image
Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки, предназначенную для удаления загрязнений, оксидов и др. составов перед операцией разварки выводов проволокой, во «flip chip»-технологии и т.д.
Pink Plasma Finish
image
Данная установка предназначена для проведения процессов плазменной обработки изделий и процессов (например удаление загрязнений, оксидов, применение во «flip chip»-технологии, бесфлюсовое оплавление, повышение адгезии и т.д.)!
UniTemp
image
Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки, предназначенную для удаления загрязнений, оксидов и др. составов перед операцией разварки выводов проволокой, во «flip chip»-технологии и т.д
Pink Plasma Finish
Установка плазменного удаления фоторезиста V10-G Универсальная система плазменной очистки V55-G
Отправить запрос