Cовременное тестовое оборудование и технологии
Рус Eng

Высокотемпературная вакуумная печь VPO-300

UniTemp

ПВакуумная печь с возможностью нагрева до 1000 °C для подложек размером 300 x 300 мм

Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до 300 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую камеру печей линейки VPO-300 производится вручную. Печи легко управляемы и просты в техобслуживании. Наличие порта в стенке камеры позволяет организовать различные решения для контроля за процессом: окно для визуального контроля, установка дополнительных термопар, подача газа и др. Две программируемые газовые линии с расходомерами могут использовать два различных газа, при подключении вакуумной помпы процесс оплавления можно проводить в вакууме. 

Отличительные особенности:
  • Быстрый нагрев (охлаждение)
  • До 4 линий подачи газа с регуляторами расхода
  • Нагрев осуществляется 48 ИК лампами
  • Нагрев с верхней и с нижней стороны, область нагрева выбирается через программное обеспечение
  • 50 программ по 50 шагов каждая 
  • Температура нагрева до 1000 °C 
  • Точный контроль температуры
  • Мониторинг и чтение данных процесса
  • Возможность создания в камере вакуума (до 10-3мбар опционально до 10-6 мбар)
  • Сенсорный экран 7" 
  • Программируемые профили температуры
  • Работа в атмосфере инертных газов, кислорода, водорода, форминг газа

Области применения:
  • Имплантация/ отжиг за счёт контактного нагрева
  • RTP, RTA, RTO, RTN
  • Легирование SiAu, SiAl, SiMo
  • Работа с диэлектриками с пониженной диэлектрической проницаемостью
  • Обжиг после имплантации
  • Кристаллизация и уплотнение поверхности
  • Разработка прототипов
  • Контроль качества

Опции:
  • Дополнительная линия подачи газа с регулятором массового расхода (максимум 3 единицы)
  • Дополнительная термопара (максимум 2 единицы)
  • Вакуумная система до 3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
  • Вакуумная система до 10-3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
  • Настольная модель с электрическим шкафом и встроенным универсальным теплообменником (UHE)
  • Дополнительная камера 100 мм с  возможностью одновременного использования 2 камер
  • Графитная плита или токоприемник (опционально покрытие карбидом кремния)
  • Мембранная помпа для вакуума до 3 мбар
  • Вращающаяся лопастная помпа для вакуума до 10-3 мбар с масляным фильтром
  • Модуль водорода: позволяет использовать 100% водород, состоит из линии подачи газа и регулятора массового расхода 
  • Вращающаяся лопастная помпа для вакуума до 10-3 мбар с масляным фильтром
  • Замкнутая водная система охлаждения
  • Камера высотой 120мм (вместо 50мм) со смотровым окном (диаметром 60мм)
  • Камера из нержавеющей стали (VA 1.4305) 
  • Графитная плита
  • Кварцевая пластина для отделения верхней зоны нагрева
  • Серийный интерфейс между системой VPO и внешним ПК
  • Удаленное управление верхней крышкой
  • Кварцевый универсальный держатель для пластин диаметром 100 - 300 мм

Технические характеристики:
Макс. размер пластин 300 x 300 мм
Материал камеры Полированный алюминий, поддон из кварцевого стекла
Высота камеры 50 мм (опционально 120 мм)
Макс. давление вакуума до 10-3 милибар, опционально до 10-6 милибар
Размеры рабочей камеры 350 x 350 x 50 мм
Макс. температура 1000 ºС
Нагрев 24 ИК лампы (21 кВт)
Зоны нагрева верхняя и нижняя (программируемые)
Скорость нагрева до 40 К/сек
Скорость охлаждения с 1000ºС до 400ºС: 200К/мин, с 400ºС до 100ºС: 30К/мин
Подача газа 1 газовая линия (опционально до 4)
Используемые газы азот, аргон, гелий, кислород, опционально водород 
Давление газов 2-6 бар, макс. расход 10 л/мин
Метод охлаждения вода, азот
Эл. Питание 3х32 А, 230 В, 3 фазы
Габаритные размеры 505 x 504 x 830 мм
Вес около 100 кг

Смежные продукты
image
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
image
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
image
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
image
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
image
Установка вакуумной герметизации с двумя отдельными нагреваемыми зонами для подложек диаметром 100 мм
UniTemp
image
Установка вакуумной герметизации с двумя отдельными нагреваемыми зонами для подложек диаметром 200 мм
UniTemp
image
Все системы линейки RSS были разработаны как бюджетное и компактное решение для оплавления припоя и других термических операций. Общий размер нагреваемой рабочей зоны составляет 630 x 210 мм, что позволяет проводить одновременную обработку до 12 пластин диаметром 100 мм каждая при температуре до 300 °C
UniTemp
image
Печь оплавления для проведения различных термических процессов в высоком вакууме с возможностью нагрева до 650 °C
UniTemp
image
Компактаная настольная печь оплавления модели RSS-110-S обеспечивает быстрый набор температуры и высокую скорость охлаждения
image
Компактаная настольная печь оплавления модели RSS-160-S обеспечивает быстрый набор температуры и высокую скорость охлаждения
UniTemp
image
Компактная настольная печь оплавления модели RSS 210-S обеспечивает быстрый набор температуры и высокую скорость охлаждения
UniTemp
image
Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа
UniTemp
image
Компактаная настольная печь оплавления модели RVS-210 обеспечивает быстрый набор температуры и высокую скорость охлаждения и подходит как для безфлюсовой пайки, так и для пайки с флюсом
UniTemp
image
Вакуумная печь оплавления для проведения различных термических процессов с возможностью нагрева до 650 °C
UniTemp
image
Вакуумная печь оплавления для бесфлюсовой пайки и пайки с флюсом с возможностью нагрева до 450 °C
UniTemp
Высокотемпературная вакуумная печь с ускоренным набором температуры RTP-150-HV Установка вакуумной герметизации моделей 2Z-HVS-100
Отправить запрос